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dc.contributor.authorGuidoum, Salah eddine-
dc.contributor.authorKhaldi, Ali-
dc.date.accessioned2022-10-30T08:42:50Z-
dc.date.available2022-10-30T08:42:50Z-
dc.date.issued2016-
dc.identifier.urihttp://dspace.univ-tiaret.dz:80/handle/123456789/3120-
dc.description.abstractCe travail est consacré à l’étude de la pulvérisation cathodique et le dépôt des couches minces par plasma. L’objectif des travaux présentés ici étant de faire une simulation avec un logiciel très développé qui s’appelle SRIM2008 ((Stopping and Range of Ions in Matter) permet de calculer les taux de pulvérisation cathodique dans les décharges électrique RF en fonction des énergies appliquées, ensuite on a procédé à la comparaison des résultats de simulationen_US
dc.language.isofren_US
dc.publisherUniversité Ibn Khaldoun -Tiaret-en_US
dc.titleL’influence de divers paramètres sur le processus de pulvérisation RF dans les décharges électriquesen_US
dc.typeThesisen_US
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