Veuillez utiliser cette adresse pour citer ce document : http://dspace.univ-tiaret.dz:80/handle/123456789/11577
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dc.contributor.authorBenzineb, Nour el Houda-
dc.date.accessioned2023-05-16T08:04:35Z-
dc.date.available2023-05-16T08:04:35Z-
dc.date.issued2016-06-
dc.identifier.urihttp://dspace.univ-tiaret.dz:80/handle/123456789/11577-
dc.description.abstractUne décharge luminescente peut fonctionner en mode continu (dc), RF ou en mode impulsionel à partir d’une décharge continue ou RF. La décharge luminescente continue est principalement utilisée pour l’analyse directe de solides conducteurs (métaux, …..) et semi-conducteurs avec, typiquement, une tension de 1 kV et un courant de 10 mA, Dans ce travaille on étudie les divers paramètres qui influent la fabrication des couches minces de semi-conducteurs utilisées largement ces dernières années dans l’industrie pour la fabrication de divers composantes des microordinateurs et spécialement les circuits intégrées. Une simulation à l’aide d’un logiciel très développé qui s’appelle SRIM (Simulation and range of ions in mater) avec la variation de tension et pour diffèrent matériaux en semi-conducteurs a pour but d’avoir l’influence de ces 2 paramètres sur le processus de la pulvérisation cathodique dans les plasmas et en fin sur la microstructure de ces couches minces.en_US
dc.language.isofren_US
dc.publisherUniversité Ibn Khaldounen_US
dc.subjectplasmaen_US
dc.subjectdécharge électriqueen_US
dc.subjectpulvérisation cathodiqueen_US
dc.subjectCaractéristiques des semi-conducteursen_US
dc.titleLa simulation des décharges luminescentes dans la fabrication des dispositifs à semi-conducteursen_US
dc.typeThesisen_US
Collection(s) :Master

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