Etude d’une cellule solaire à base d’un semiconducteur en déposée en couches minces sur un substrat étranger

Abstract

Le but de ce mémoire est de voir l’influence des différents paramètres d’une cellule solaire à base du silicium polycristallin en couche mince déposé sur un substrat d’Alumine, dont la structure de cette cellule est de type n+ pp+ /substrat. La simulation par logiciel PC1D a été choisie pour connaitre la valeur de variation influençant sur le rendement de la cellule par les différents paramètres tels que, la base, l’émetteur, le BSF et les passivations sur les surfaces. Après la simulation, les résultats montrent qu’il est possible d’atteindre un rendement convenable (12.3%) avec un film de 20µm d’épaisseur. Ce résultat justifie la diminution de l’épaisseur de la couche silicium, ainsi le rôle que jouent ces substrats sur les performances photovoltaïque, permettant un confinement optique favorable dans la couche active.